J-Plat Patの機能の大幅な拡張が2019年5月に予定されています。商標に関する改善内容は、以下のとおりです。

１．出願経過のタイムラグの改善

出願経過情報の審査タイムラグが原則、特許庁で書類が発出された翌日に審査・審判経過情報が反映されることになります。これによって審査経過をいち早く認識することができます。

２．書類内容のオンライン取得

審査経過の書類（拒絶理由通知書、意見書、手続補正書、面接記録、応対記録）は閲覧請求しなくとも、オンラインで取得することができるようになります。過去の書類が取得できるかは現時点で不明です。

３．消滅商標のデータ公開

現在のデータは有効な出願と登録のみ掲載されていますが、改善後は権利が消滅した商標も含めて検索対象となります。

その他としまして、AIを活用した図形検索も近年JplatPatに実装される予定となっています。

出典：https://www.jpo.go.jp/torikumi/chouhoyu/chouhoyu2/files/tokkyo_platform_kaizen/yoteikinou.pdf